適用客戶:
高校、科研單位及企業(yè):獲得材料的成分、材料內(nèi)部原子或分子的結(jié)構(gòu)或形態(tài)等信息。用于確定晶體的原子和分子結(jié)構(gòu)。其中晶體結(jié)構(gòu)導(dǎo)致入射X射線束衍射到許多特定方向。 通過測量這些衍射光束的角度和強(qiáng)度,晶體學(xué)家可以產(chǎn)生晶體內(nèi)電子密度的三維圖像。 根據(jù)該電子密度,可以確定晶體中原子的平均位置,以及它們的化學(xué)鍵和各種其他信息。
適用標(biāo)準(zhǔn):
樣品尺寸:
金屬樣品如塊狀、板狀、圓拄狀要求磨成一個(gè)平面,面積不小于10X10毫米;粉末樣品要求磨成320目的粒度,約40微米。
產(chǎn)品簡介:
X射線是一種波長很短(約為20~0.06埃)的電磁波,能穿透一定厚度的物質(zhì),并能使熒光物質(zhì)發(fā)光、照相乳膠感光、氣體電離。在用電子束轟擊金屬“靶”產(chǎn)生的X射線中,包含與靶中各種元素對應(yīng)的具有特定波長的X射線,稱為特征(或標(biāo)識)X射線。XRD 即X-ray diffraction 的縮寫,中文翻譯是是X射線衍射,通過對材料進(jìn)行X射線衍射,分析其衍射圖譜,獲得材料的成分、材料內(nèi)部原子或分子的結(jié)構(gòu)或形態(tài)等信息。
X射線是原子內(nèi)層電子在高速運(yùn)動(dòng)電子的轟擊下躍遷而產(chǎn)生的光輻射,主要有連續(xù)X射線和特征X射線兩種。晶體可被用作X光的光柵,這些很大數(shù)目的粒子(原子、離子或分子)所產(chǎn)生的相干散射將會發(fā)生光的干涉作用,從而使得散射的X射線的強(qiáng)度增強(qiáng)或減弱。由于大量粒子散射波的疊加,互相干涉而產(chǎn)生最大強(qiáng)度的光束稱為X射線的衍射線。
滿足衍射條件,可應(yīng)用布拉格公式:2dsinθ=nλ。入射光束使每個(gè)散射體重新輻射其強(qiáng)度的一小部分作為球面波。 如果散射體與間隔d對稱地排列,則這些球面波將僅在它們的路徑長度差2dsinθ等于波長λ的整數(shù)倍的方向上同步。 在這種情況下,入射光束的一部分偏轉(zhuǎn)角度2θ,會在衍射圖案中產(chǎn)生反射點(diǎn)。
應(yīng)用已知波長的X射線來測量θ角,從而計(jì)算出晶面間距d,這是用于X射線結(jié)構(gòu)分析;另一個(gè)是應(yīng)用已知d的晶體來測量θ角,從而計(jì)算出特征X射線的波長,進(jìn)而可在已有資料查出試樣中所含的元素。目前 X射線衍射(包括散射)已經(jīng)成為研究晶體物質(zhì)和某些非晶態(tài)物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的有效方法。物相分析是X射線衍射中用得最多的方面,分定性分析和定量分析。前者把對材料測得的點(diǎn)陣平面間距及衍射強(qiáng)度與標(biāo)準(zhǔn)物相的衍射數(shù)據(jù)相比較,確定材料中存在的物相;后者則根據(jù)衍射花樣的強(qiáng)度,確定材料中各相的含量。在研究性能和各相含量的關(guān)系和檢查材料的成分配比及隨后的處理規(guī)程是否合理等方面都得到廣泛應(yīng)用。
主要參數(shù):
應(yīng)用領(lǐng)域:
物相鑒定功能,分析各結(jié)晶相的比例;結(jié)晶度分析,確定材料的結(jié)晶程度;快捷測試出點(diǎn)陣參數(shù),為新材料開發(fā)應(yīng)用提供性能驗(yàn)證指標(biāo);快捷測定微觀應(yīng)力;納米材料由于顆粒細(xì)小,極易形成團(tuán)粒,采用通常的粒度分析儀往往會給出錯(cuò)誤的數(shù)據(jù),采用X射線衍射線線寬法(謝樂法)可以測定納米粒子的平均粒徑。
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